超伝導セラミックス薄膜の形成方法

名称

  • 名称 超伝導セラミックス薄膜の形成方法
  • 番号 特許第4252054号
  • 氏名 蛯名 堅悟

特徴

現在使われているシリコンなどの半導体に代わるものとして期待される超伝導セラミックスの製造方法の技術に属し、特に、液相法で代表的な共沈法の中の均一良質な粉末の合成が得られるゾルーゲル法(クエン酸塩法)による作製方法である。

効果

この方法は、各種ガラス(シリカ・ガラス、多成分ガラス・バルク、ファイバー、薄膜)、セラミック・コーティング材料、多孔質セラミックス/ガラス、セラミックス微粉体、さらに非酸化物セラミックス、マイクロ・コンポジットなどに応用され、保護コーティング、高強度のポリマー/ガラス・コンポジット膜、反射防止コーティング、光反射コーティング、光吸収コーティング、非線形光学効果、絶縁体・誘電体、導電性コーティング、超伝導体、磁性体コーティング、触媒への応用、フォト・アノードヘの応用、化学センサーへの応用、コンポジット材料、エアロゲル等などの材料科学の諸分野から、今日のマイクロ・エレクトロニクスは勿論、今後に大きな比重を占めることになると予想されるオプトエレクトロニクス、そして医用材料などの分野で利用が可能になる。